Nicomp 380
納米粒徑分析儀采用動態(tài)光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理來獲得范圍在0.3 nm到10 μm的膠體體系的粒度分布。
DLS是通過一定波長的聚焦激光束照射在懸浮于樣品溶液的粒子上面，從而產(chǎn)生很多的散射光波。這些光波會互相干涉從而影響散射強(qiáng)度，散射強(qiáng)度隨時間不斷波動，二者之間形成一定的函數(shù)關(guān)系。粒子的擴(kuò)散現(xiàn)象（或布朗運(yùn)動）導(dǎo)致光強(qiáng)不斷波動。光強(qiáng)的變化可以通過探測器檢測得到。使用自相關(guān)器分析隨時間而變的光強(qiáng)波動就可以得到粒度分布系數(shù)（Particle size distribution, PSD）。單一粒徑分布的自相關(guān)函數(shù)是一個指數(shù)衰減函數(shù)，由此可以很容易通過衰減時間計算得到粒子擴(kuò)散率。終，粒子的半徑可以很容易地通過斯托克斯（Stokes-Einstein）方程式計算得到。
大部分樣品一般都不均勻，往往會呈現(xiàn)多分散體系狀態(tài)，即測出來的粒徑正態(tài)分布范圍會比較大，直觀的呈現(xiàn)是粒徑分布峰比較寬。自相關(guān)函數(shù)是由多組指數(shù)衰減函數(shù)綜合組成，每一個指數(shù)衰減函數(shù)都會因指數(shù)衰減時間不同而存在差異，此時計算自相關(guān)函數(shù)就變得不再簡單。
Nicomp 380納米粒徑分析儀巧妙運(yùn)用了去卷積算法來轉(zhuǎn)化原始數(shù)據(jù)，從而得出接近真實值的粒度分布。Nicomp 尤其適合測試粒度分布復(fù)雜的樣品體系，利用一組*的去卷積算法將簡單的高斯正態(tài)分布模擬成高分辨率的多峰分布模式，這種去卷積分析方法，即得到PSS粒度儀公司*的粒徑分布表達(dá)方法-Nicomp分布（Nicomp Distribution）。
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